1、产品及其简介
NMC508A等离子体硅刻蚀系统是适用于8英寸集成电路生产线，面向逻辑和存储等多种电路制造的先进电感耦合等离子体多反应室刻蚀系统。该系统采用了多项专利技术，具有CD（关键尺寸）控制均匀性高、刻蚀低损伤、高产能、低消耗及多腔室多种工艺集成等特点。
该系统广泛适用于8英寸0.25μm~0.10μm集成电路生产线中多晶硅栅极刻蚀、金属硅化物栅极刻蚀、浅槽隔离刻蚀及原位硬掩模刻蚀等工艺。
NMC508A作为中国首台自主研发的8英寸集成电路前工序主流工艺制造设备，已经通过知名半导体生产线的严格评估，并正式交付客户使用。
2、创新性和先进性
在NMC508A产品研发中，本公司采用了“关键技术自主开发，非关键技术引进集成”的集成创新战略和消化吸收创新战略。
NMC508A产品所涉及的核心部件共有六个，分别是：等离子源、匹配器、进气装置、静电卡盘、腔室和内衬。就上述关键部件我公司已申请100多项专利。以最核心的部件，等离子体源而言，目前共申请专利20项。
NMC508A共涉及六项关键技术，分别是：等离子体的产生与控制、先进工艺控制技术（APC）、100纳米刻蚀工艺技术、颗粒控制、防腐及等离子轰击反应腔表面处理（喷涂、阳极氧化）、硅片自动传输系统。针对这些关键技术已申请专利100多项，以其中的刻蚀工艺和APC为例，围绕这两项技术共申请近40项专利，专利涵盖了各种刻蚀工艺方法和先进工艺控制方法及应用。
NMC508A除了上述关键部件和关键技术外，软件集成也非常关键，在软件方面北方微电子公司已登记6件计算机软件著作权。
NMC508A是目前国内技术水平最先进的8英寸高密度等离子刻蚀机，设备技术性能指标达到国际同类主流产品水平。
3、应用范围和市场前景
NMC508A适用于8英寸 0.25~0.10um集成电路生产线逻辑和记忆等多种电路的工艺制程。主要工艺应用为：多晶硅栅极刻蚀、金属硅化物栅极刻蚀、浅槽隔离刻蚀、原位硬掩模刻蚀、硅填充回刻等。该系统可以为集成电路制造商提供完整的硅刻蚀解决方案。
该产品面向国内外所有的8英寸集成电路生产线。
据统计，新建一条8英寸集成电路生产线需投资10－15亿美元，其中设备的投资占总投资的70%左右。对于技术代为0.25~0.10um的8英寸生产线，每获得10000片/月的产能需要购置的硅刻蚀设备为3~4台。在我国半导体市场和集成电路制造业蓬勃发展的形势下，随着新建8英寸集成电路生产线数量的持续增长和已有8英寸生产线产能的不断扩充，预计到2010年，仅中国地区8英寸硅刻蚀机的市场需求就将达到25亿美元，NMC508A将迎来广阔的市场前景。
全球知名的集成电路制造企业中芯国际集成电路制造有限公司首批采购6台NMC508A刻蚀机，合同总额超过1000万元美元。这是国产8英寸核心装备首次成功进入大生产线，打破了集成电路核心装备全部被外国企业垄断的局面。预计到2010年，该类设备的总销售收入将达到30亿元人民币以上。